項目名稱：???高真空磁控濺射系統(tǒng)一套???項目編號：???ZBZXHB******
公告開始日期：???2025-07-10 14:40:48???公告截止日期：???2025-07-15 15:00:00
采購單位：******大學???付款方式：???請查看比選文件
到貨時間要求：???合同簽訂后150個日歷日內(nèi)
預(yù)算總價：???￥990000.00
收貨地址：???望江校區(qū)第一理科樓樓中124 房間
采購清單
采購商品：???高真空磁控濺射系統(tǒng)???采購數(shù)量：???1???計量單位：???臺???所屬分類：???其他試驗儀器及裝置
品牌：???-
型號：???-
預(yù)算單價：???￥990000.00
技術(shù)參數(shù)及配置要求：???該設(shè)備具有可控制的磁場、穩(wěn)定的氬氣控制方案，主要用于在超高真空環(huán)境中制備單層、多層薄膜，主要為多層金屬薄膜、合金薄膜、半導體材料薄膜、氧化物薄膜等；濺射方式主要有直流濺射以及射頻濺射。一、真空系統(tǒng)：1.▲超高真空304不銹鋼圓柱體反應(yīng)腔體，尺寸不小于450mm高×350mm直徑；腔體頂部采用橡膠圈密封，底部采用金屬密封；采用前開門設(shè)計，方便打開腔體；主腔體配備不少于1個6英寸觀察窗，帶手動擋板；2.★極限真空度：8×10－5Pa；3.恢復(fù)真空時間：大氣至3×10－3Pa≤15min；4.保真空：達到極限真空度后，關(guān)閉高真空閥一小時，真空室真空度≤7×10-1Pa；5.▲電動蝶閥采用伺服控制，用于自動恒真空系統(tǒng)，使濺射使真空保持恒定。6.★真空系統(tǒng)配置：分子泵和前級泵組合，配軟抽閥及軟放閥(可減少真空室排大氣時湍流對工件的影響), 管道通徑為16mm，真空系統(tǒng)管道采用不銹鋼材料，管道軟連接處采用金屬波紋管；各真空閥門為氣動閥門。二、工藝能力：1.制造商需要配合用戶做工藝設(shè)計和工藝參數(shù)調(diào)整；2.★制造商需具備一定的技術(shù)基礎(chǔ)與工藝能力，采用磁控濺射單一技術(shù)，制備Ni金屬單質(zhì)薄膜，厚度≥300nm，基底尺寸要求＞φ50mm，基底材質(zhì)為PI基材），并在投標時提供樣品的測試數(shù)據(jù)（附在投標文件中）。要求樣品肉眼觀察無明顯裂紋，背面用光源照射時也不會出現(xiàn)明顯裂紋。3.▲根據(jù)工藝要求，設(shè)備成膜均勻性最優(yōu)可達（SiO2）：±1.5% @ 200mm基片（去除邊緣5mm）；三、樣品臺系統(tǒng)： 1.★樣品臺具備濺射4英寸基片的能力并向下兼容，安裝在真空腔頂部，向上濺射，樣品臺配置最高溫度不低于800℃，加熱系統(tǒng)采用控溫精度±1℃；2.▲樣品臺可調(diào)工作距離不少于70mm，鋁合金材質(zhì)；3.工件轉(zhuǎn)動的動密封為磁流體密封，工件盤軸向、徑向跳動≤±2.5%；四、電源和靶系統(tǒng)：1.★主腔室底部配置不少于3套4英寸（使用直徑4英寸的靶材）靶槍；2.所有靶槍均配備獨立的氣動擋板和套筒，防止靶材交叉污染；3.所有靶槍適應(yīng)直流電源或射頻電源工作模式；4.★靶槍電源包括：不少于2套功率500W直流電源，帶專用4路切換器，通過切換器，其中1個直流電源可連接4個靶槍，通過電腦控制切換給不同靶槍供電；不少于1套功率600W射頻電源，帶自動匹配網(wǎng)絡(luò)及輸出電纜；五、電控系統(tǒng)：1.▲控電柜采用一體式，儀表安裝柜采用非標準英尺寸，另一側(cè)作為電器元件安裝柜結(jié)構(gòu)為大板式，便于安裝維護，元器件損壞時應(yīng)易于檢測和更換；2.★配不小于15寸觸摸屏控制功能，具有良好的人機界面與操作功能，可實現(xiàn)濺射鍍膜過程全自動化控制，從排氣到濺射鍍膜結(jié)束整個過程一鍵式自動控制，安全連鎖的操作系統(tǒng)；3.控電柜內(nèi)主要電器外購件均選用通過CE認證或ISO9001認證的生產(chǎn)廠商的產(chǎn)品，確保安全可靠。六、樣品處理裝置1. 加熱板材質(zhì)：陶瓷涂層鋁合金2. 攪拌速度：50-1500rpm3. 溫度范圍：室溫-320℃4. 具備計時功能5. 具備自動反轉(zhuǎn)功能七、配置清單1. 真空腔體1套；2. 分子泵和直聯(lián)泵各1套；3. 射頻電源2套，直流電源1套；4. 電控一體機1套；5. 冷卻循環(huán)水1套；6. 樣品處理裝置1套；7. 滿足招標要求的其他配置；
售后服務(wù)：???服務(wù)年限:12月;電話支持:7x24小時;商品承諾:原廠全新未拆封正品;質(zhì)保期:一年;
